東京工業大学で開催された第66回応用物理学会春季学術講演会にて、宮地が研究成果を口頭発表しました。

タイトル：フェムト秒レーザーによるSiOx上へのナノ構造生成過程

著者：〇宮地悟代1, 髙谷竜禎(B4)1, Jürgen Ihlemann2

所属：1東京農工大, 2Laser-Laboratorium Göttingen e.V.

概要：これまでにfsレーザーによる固体表面の周期構造生成の物理メカニズムを理解し、種々の固体に均一で直線性の良いナノ構造を形成してきた。本研究では、明らかにしてきた物理メカニズムを基に、ガラスの一種であるSiOx (x ~ 1) 表面のレーザー照射部に一様に、ナノ構造を生成できた。これは、SiO2よりも高い非線形光吸収係数を有するSiOx (x ~ 1)の表面でレーザー光が吸収されて高密度の電子が励起され、光と強く結合した表面プラズモンポラリトンの光近接場によってナノアブレーションが誘起されたことを示している。実験結果とモデル計算を基に物理過程について詳しく考察する。

9a-W631-1　(3/9(土) 9:00-9:15)

2019.03